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Study of A Heterojunction Double Gate Ferroelectric p-n-i-n Tunnel FET combining analytical modeling and TCAD simulation

异质结铁电性材料科学光电子学隧道场效应晶体管双闸门电子工程工程物理工程类电气工程场效应晶体管 MOSFET 晶体管电压电介质

作者

Shib Sankar Das,Sudipta Ghosh,Subir Kumar Sarkar

出处

期刊：Micro and nanostructures [Elsevier BV]
日期：2024-10-30 卷期号：196: 208003-208003 被引量：2

标识

DOI：10.1016/j.micrna.2024.208003

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