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Designing barrier-free metal/MoS2 contacts through electrene insertion

量子隧道 肖特基势垒 材料科学 金属 肖特基二极管 插入（复合材料） 光电子学 纳米技术 冶金 二极管 复合材料
作者
Mohammad Rafiee Diznab,Adrian F. Rumson,Jesse Maassen,Erin R. Johnson
出处
期刊：Physical Chemistry Chemical Physics [Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01 卷期号：26 (24): 16947-16954 被引量：5
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1039/d3cp06112d
摘要
DFT calculations show that Ca 2 N is the most favourable electrene to insert to eliminate Schottky and tunnelling barriers across Au/MoS 2 or Cu/MoS 2 interfaces.
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