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Cerium metal oxidation studied by IR reflection-absorption and Raman scattering spectroscopies

拉曼光谱 分析化学(期刊) 氧化物 拉曼散射 薄膜 材料科学 吸收光谱法 吸收(声学) 氧化铈 化学 无机化学 光学 纳米技术 物理 色谱法 冶金 复合材料
作者
Danielle Schweke,Austin Kinn B. Rubin,Lior Rabinovitch,Olga Kraynis,Tsachi Livneh
出处
期刊:Journal of Physics: Condensed Matter [IOP Publishing]
卷期号:34 (32): 324002-324002 被引量:7
标识
DOI:10.1088/1361-648x/ac730a
摘要

Abstract Oxidation of cerium metal is a complex process which is strongly affected by the presence of water vapor in the oxidative atmosphere. Here, we explore, by means of infrared reflection-absorption spectroscopy (IRRAS) and Raman scattering spectroscopies, thin oxide films, formed on cerium metal during oxidation, under dry vs ambient (humid) air conditions (∼0.2% and ∼50% relative humidities, respectively) and compare them with a thin film of CeO 2 deposited on a Si substrate. Complementary analysis of the thin films using x-ray diffraction and focused ion beam-scanning electron microscopy enables the correlation between their structure and spectroscopic characterizations. The initial oxidation of cerium metal results in the formation of highly sub-stoichiometric CeO 2− x . Under dry air conditions, a major fraction of that oxide reacts with oxygen to form CeO ∼2 , which is spectroscopically detected by Raman scattering F 2 g symmetry mode and by IRAAS F 1 u symmetry mode, splitted into doubly-degenerate transverse optic and mono-degenerate longitudinally optic (LO) modes. In contrast, under ambient (humid) conditions, the oxide formed is more heterogenous, as the reaction of CeO 2− x diverges towards the dominant formation of Ce(OH) 3 . Prior to the spectral emergence of Ce(OH) 3 , hydrogen ions incorporate into the highly sub-stoichiometric oxide, as manifested by Ce–H local vibrational mode detected in the Raman spectrum. The spectroscopic response of the thin oxide layer thus formed is more complex; particularly noted is the absence of the LO mode. It is attributed to the high density of microstructural and compositional defects in the oxide layer, which results in a heterogenous dielectric nature of the thin film, far from being representable by a single phase of CeO ∼2 .
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