Charge control and mobility in AlGaN/GaN transistors: Experimental and theoretical studies

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作者
Yifei Zhang,I. P. Smorchkova,C. R. Elsass,S. Keller,J. P. Ibbetson,Steven P. DenBaars,Umesh K. Mishra,Jasprit Singh
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:87 (11): 7981-7987 被引量:104
标识
DOI:10.1063/1.373483
摘要

In this article we report on two dimensional sheet charge and mobility in GaN/AlGaN heterostructure field effect transistors. Both experimental and theoretical results are presented. Experimental results are reported on samples grown by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) and molecular beam epitaxy (MBE). Theoretical studies are done to examine how spontaneous polarization and piezoelectric effect control the sheet charge density. The studies also focus on how interface roughness, aluminum mole fraction in the barrier and phonon scattering influence mobility. We find that interface roughness is a dominant source of scattering in the samples reported. Due to the variation in growth techniques we find that the MBE samples have a smoother interface compared to the MOCVD samples. By carefully fitting the experimental data we present results on interface roughness parameters for MBE and MOCVD samples.
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