Atomic Layer Deposition of Aluminum Metal Films Using a Thermally Stable Aluminum Hydride Reducing Agent

铝原子层沉积图层（电子）材料科学金属沉积（地质）氢化物氢化铝化学工程无机化学

作者

Kyle J. Blakeney,Charles H. Winter

出处

期刊：Chemistry of Materials [American Chemical Society]
日期：2018-03-12 卷期号：30 (6): 1844-1848 被引量：22

标识

DOI：10.1021/acs.chemmater.8b00445

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