Effects of Sputtering Current on Electrochemical Corrosion Characteristics of Nanoscale Chromium Films Deposited by Direct Current Magnetron Sputtering

材料科学 冶金 电解质 溅射沉积 溅射 腐蚀 薄膜 涂层 电化学 复合材料 电极 纳米技术 物理化学 化学
作者
Chenyang Du,Yanjie Ren,Huayue Du,Jian Chen,Zhimin Liu,Wei Qiu,Wei Li
出处
期刊:Journal of Nanoscience and Nanotechnology [American Scientific Publishers]
卷期号:20 (8): 4846-4853 被引量:1
标识
DOI:10.1166/jnn.2020.18495
摘要

Chromium coatings are often used for surface treatment of metals and alloys. In this study, nanoscale chromium coatings were deposited on 316L stainless steel by direct current magnetron sputtering. The effects of sputtering currents on electrochemical corrosion behavior of nanochromium coatings were investigated in 0.5 M H²SO⁴ + 2 ppm F- solution by electrochemical methods at room temperature. Results showed that the corrosion rates for nano-chromium coatings deposited at 0.25 A, 0.35 A, and 0.4 A were lower than bare steel by more than two orders of magnitude. The chromium coatings deposited at 0.25 A were inclined to degrade in the electrolyte after long-term immersion in the electrolyte, due to lesser coverage of passivity film on chromium coating. Moreover, the chromium coatings deposited at 0.3 A and 0.4 A exhibited excellent corrosion resistance due to formation of a continuous, compact and protective passive film.

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