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Assessing the Sensitivity of Pourbaix Diagrams to Computational Protocols: Electrochemical Stability of Ni Oxides as a Case Study

Pourbaix图 相图 图表 理论(学习稳定性) 电化学 氧化物 材料科学 相(物质) 热力学 化学 计算机科学 数学 物理化学 电极 冶金 统计 物理 机器学习 有机化学
作者
Wenyu Sun,Nitish Govindarajan,Aditya Prajapati,Jeremy T. Feaster,Christopher Hahn,Sneha A. Akhade
出处
期刊:Journal of Physical Chemistry C [American Chemical Society]
卷期号:128 (50): 21581-21592 被引量:6
标识
DOI:10.1021/acs.jpcc.4c06788
摘要

Pourbaix diagrams stand as a useful tool in assessing and visualizing materials’ electrochemical stability and are widely used for electrocatalyst design. However, their reliability hinges on the accuracy of the chemical potentials of involved phases, which may bear uncertainties and can be significantly impacted by decision-making steps in the computational protocol. This study introduces a robust sensitivity analysis framework, exemplified through a detailed examination of the computational Pourbaix diagram of Ni, the oxides of which are used as high-activity and cost-friendly catalysts for many electrochemical reactions. Quantities of interest derived from the Pourbaix diagram include the appearance and stability domain of the catalytically active Ni oxide phases along with the onset electrochemical potentials of phase transitions. These metrics can guide the design of operational conditions for Ni oxide electrocatalysts. We find that the employed DFT exchange-correlation functional has the most significant influence on the computed Pourbaix diagram. Uncertainties on crystal structures, along with their related ab initio energetics, are also found to affect the size of the phase stability domain. Higher-order coupling among input parameters is found to play a crucial role in influencing the appearance and distribution of Ni phases in the diagram. Our findings suggest a need to consider variations and uncertainties associated with the computational procedures on predicted Pourbaix diagrams for materials design.
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