Resistive switching behaviors of cobalt oxide films with structural change by post-thermal annealing

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作者
Juntae Ahn,Tae‐Young Kim,Yoonsok Kim,Eun Kyu Kim
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
卷期号:156: 107295-107295 被引量:7
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2022.107295
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