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Molecular feature influence on ArF photoresist polymer dissolution behavior
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化学
单体
纳米颗粒
作者
Xia Lin,
Yuhua Li,
Yisong Huo,
Xiyan Dong,
Liwen Mu,
Xiaohua Lü,
Ruzhi Zhang
标识
DOI：10.1117/12.3092889
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