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New directions in the analysis of buried interfaces for device technology by hard X-ray photoemission
X射线光电子能谱
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铬
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作者
O. Renault,
Pierre-Marie Deleuze,
Jules Courtin,
T.R. Bure,
Nicolas Gauthier,
Emmanuel Nolot,
C. Robert‐Goumet,
Nicolas Pauly,
E. Martínez,
Kateryna Artyushkova
出处
期刊：
Faraday Discussions
[Royal Society of Chemistry]
日期：2022-01-01
卷期号：236: 288-310
被引量：15
链接
nih.gov
cea.hal.science
handle.net
doi.org
标识
DOI：10.1039/d1fd00110h
摘要
In this review, the status of hard X-ray photoelectron spectroscopy (HAXPES) implemented with chromium Kα excitation (5.414 keV) and applied to technological research in nanoelectronics is presented.
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