Study on intrinsic carrier concentration of direct bandgap Ge1-xSnx

带隙 材料科学 直接和间接带隙 凝聚态物理 态密度 半导体 半金属 合金 准费米能级 价(化学) 光电子学 物理 量子力学 复合材料
作者
Bai Min,Xuan Rong-Xi,Jianjun Song,Zhang He-Ming,Huiyong Hu,Bin Shu
出处
期刊:Chinese Physics [Science Press]
卷期号:63 (23): 238502-238502 被引量:1
标识
DOI:10.7498/aps.63.238502
摘要

Indirect bandgap Ge can be turned to a direct bandgap semiconductor by the alloy-modified technique, which can be applied to advanced photonic devices and electronic devices. Based on 8 bands Kronig-Penny Hamilton, this paper focuses on the physical parameters of direct bandgap Ge1-xSnx, such as conduction band effective density of states, valence band effective density of states and the intrinsic carrier concentration, and aims to provide valuable references for understanding the direct bandgap modified Ge materials and device physics as well as their applications. Results show that: conduction band effective density of states in direct bandgap Ge1-xSnx alloy decreases obviously with increasing Sn fraction, while its valence band effective density of states almost does not change with increasing Sn fraction. Compared with bulk Ge, the conduction band effective density of states and valence band effective density of states in direct bandgap Ge1-xSnx alloy are lower by two and one orders of magnitude respectively; the intrinsic carrier concentration in direct bandgap Ge1-xSnx alloy increases with increasing Sn fraction, and its value is an order of magnitude higher than that of bulk Ge.
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