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Excellent Ferroelectricity in 6-nm HZO With Sub-5-nm Nb Electrodes and Nb 2 O 5 Interface Engineering at Low-Thermal Budget of 300 ° C

材料科学 铁电性 电极 光电子学 热的 接口(物质) 非易失性存储器 快速热处理 热稳定性 随机存取存储器 电击穿 热工 电压 电容器 热膨胀 集成电路 磁滞
作者
Keyou Tong,Xuanyi Li,Xi Zhang,Jing Xu,Weibing Liu,Wenjun Zhang,Sen Yang,Haisu Gao,Binbin Xu,Jiahan Yu,Wenjuan Xiong,xiaoxue ji,J J Liu,Xiaolei Wang,Jun Luo
出处
期刊:IEEE Electron Device Letters [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:47 (9): 1771-1774
标识
DOI:10.1109/led.2026.3711003
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