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SiC Complementary Junction Field-Effect Transistor Logic Gate Operation at 623 K

JFET公司 逻辑门 逆变器 碳化硅 晶体管 材料科学 电气工程 场效应晶体管 光电子学 电压 电子工程 工程类 冶金
作者
Mitsuaki Kaneko,Masashi Nakajima,Qimin Jin,Tsunenobu Kimoto
出处
期刊:IEEE Electron Device Letters [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:43 (7): 997-1000 被引量:21
标识
DOI:10.1109/led.2022.3179129
摘要

Here, we show that silicon carbide (SiC) complementary logic gates composed of p- and n-channel junction field-effect transistors (JFETs) fabricated by ion implantation operate at 623 K with a supply voltage as low as 1.4 V. The logic threshold voltage shift of the complementary JFET (CJFET) inverter is only 0.2 V from 300 to 623 K. Furthermore, temperature dependencies of the static and dynamic characteristics of the CJFET inverter are well explained by a simple analytical model of SiC JFETs.
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