High-rate magnetron deposition of CuOx films in the metallic mode enhanced by radiofrequency inductively coupled plasma source

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作者
Dmitrii V. Sidelev,Ekaterina D. Voronina,V.A. Grudinin
出处
期刊:Vacuum [Elsevier BV]
卷期号:207: 111551-111551 被引量:9
标识
DOI:10.1016/j.vacuum.2022.111551
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