Embedding Reverse Electron Transfer Between Stably Bare Cu Nanoparticles and Cation‐Vacancy CuWO 4

材料科学 空位缺陷 纳米颗粒 催化作用 电子转移 化学工程 钝化 吸附 化学物理 纳米技术 光化学 图层(电子) 物理化学 化学 结晶学 工程类 生物化学
作者
Xiyang Wang,Zhen Li,Xinbo Li,Chuan Gao,Yinghui Pu,Xia Zhong,Jingyu Qian,Minli Zeng,Xuefeng Chu,Zuolong Chen,Carl Redshaw,Hua Zhou,Cheng‐Jun Sun,Tom Regier,Graham King,James J. Dynes,Bingsen Zhang,Yanqiu Zhu,Guangshe Li,Yue Peng
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:36 (49): e2412570-e2412570 被引量:25
标识
DOI:10.1002/adma.202412570
摘要

Abstract Cu nanoparticles (NPs) have attracted widespread attention in electronics, energy, and catalysis. However, conventionally synthesized Cu NPs face some challenges such as surface passivation and agglomeration in applications, which impairs their functionalities in the physicochemical properties. Here, the issues above by engineering an embedded interface of stably bare Cu NPs on the cation‐vacancy CuWO 4 support is addressed, which induces the strong metal‐support interactions and reverse electron transfer. Various atomic‐scale analyses directly demonstrate the unique electronic structure of the embedded Cu NPs with negative charge and anion oxygen protective layer, which mitigates the typical degradation pathways such as oxidation in ambient air, high‐temperature agglomeration, and CO poisoning adsorption. Kinetics and in situ spectroscopic studies unveil that the embedded electron‐enriched Cu NPs follow the typical Eley‐Rideal mechanism in CO oxidation, contrasting the Langmuir‐Hinshelwood mechanism on the traditional Cu NPs. This mechanistic shift is driven by the Coulombic repulsion in anion oxygen layer, enabling its direct reaction with gaseous CO to form the easily desorbed monodentate carbonate.
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