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Total ionizing dose effects in MOS oxides and devices

电离辐射 俘获 材料科学 光电子学 吸收剂量 辐照 辐射 MOSFET 物理 电压 电气工程 电子工程 晶体管 核物理学 工程类 生态学 生物
作者
Timothy R. Oldham,F. B. McLean
出处
期刊:IEEE Transactions on Nuclear Science [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:50 (3): 483-499 被引量:935
标识
DOI:10.1109/tns.2003.812927
摘要

This paper reviews the basic physical mechanisms of the interactions of ionizing radiation with MOS oxides, including charge generation, transport, trapping and detrapping, and interface trap formation. Device and circuit effects are also discussed briefly.
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