Highly Stable Epitaxially Crystallized Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 Films

外延 材料科学 铁电性 正交晶系 微晶 脉冲激光沉积 结晶 亚稳态 氧化剂 结晶学 薄膜 分析化学(期刊) 光电子学 化学工程 电介质 纳米技术 晶体结构 化学 冶金 图层(电子) 工程类 有机化学 色谱法
作者
Xueliang Lyu,Tingfeng Song,Alberto Quintana,Ignasi Fina,F. Sánchez
出处
期刊:ACS applied electronic materials [American Chemical Society]
卷期号:5 (11): 6142-6148 被引量:2
标识
DOI:10.1021/acsaelm.3c01085
摘要

Financial support from the Spanish Ministry of Science and Innovation (MCIN/AEI/10.13039/501100011033), through the Severo Ochoa FUNFUTURE (CEX2019-000917-S), PID2020-112548RB-I00 and PID2019-107727RB-I00, and from Generalitat de Catalunya (2021 SGR 00804) projects is acknowledged. We also acknowledge project TED2021-130453B–C21, funded by MCIN/AEI/10.13039/501100011033 and European Union NextGeneration EU/PRTR. I.F. acknowledges Ramón y Cajal contract RYC-2017-22531 (Fondo Social Europeo). X.L. and T.S. are financially supported by China Scholarship Council (CSC) with No.202206180011 and 201807000104, respectively. X.L. and T.S. work have been done as a part of their Ph.D. program in Materials Science at Universitat Autònoma de Barcelona.
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