Low‐k Insulators as the Choice of Dielectrics in Organic Field‐Effect Transistors

材料科学 有机半导体 半导体 电介质 绝缘体(电) 光电子学 场效应晶体管 晶体管 介电常数 偶极子 栅极电介质 阈值电压 工程物理 凝聚态物理 电压 电气工程 物理 工程类 量子力学
作者
János Veres,Simon Ogier,Stephen Leeming,Domenico C. Cupertino,Soad Mohialdin Khaffaf
出处
期刊:Advanced Functional Materials [Wiley]
卷期号:13 (3): 199-204 被引量:767
标识
DOI:10.1002/adfm.200390030
摘要

Abstract In this paper, we present a new effect influencing the operation of organic field‐effect transistors resulting from the choice of gate insulator material. In a series of studies it was found that the interaction between the insulator and the semiconductor materials plays an important role in carrier transport. The insulator is not only capable of affecting the morphology of the semiconductor layer, but can also change the density of states by local polarization effects. Carrier localization is enhanced by insulators with large permittivities, due to the random dipole field present at the interface. We have investigated this effect on a number of disordered organic semiconductor materials, and show here that significant benefits are achievable by the use of low‐ k dielectrics as opposed to the existing trend of increasing the permittivity for low operational voltage. We also discuss fundamental differences in the case of field‐effect transistors with band‐like semiconductors.

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