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Chemical mechanical polishing (CMP) of on-axis Si-face 6H-SiC wafer for obtaining atomically flat defect-free surface

化学机械平面化薄脆饼材料科学抛光磨料表面粗糙度泥浆复合材料扫描电子显微镜光电子学

作者

Guoshun Pan,Yan Zhou,Guihai Luo,Xiao‐Lei Shi,Chunli Zou,Hua Gong

出处

期刊：Journal of Materials Science: Materials in Electronics [Springer Science+Business Media]
日期：2013-10-08 卷期号：24 (12): 5040-5047 被引量：81

标识

DOI：10.1007/s10854-013-1519-1

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