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A high refractive index resist for UV-nanoimprint soft lithography based on titanium-containing elemental polymer oligomers
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作者
Junlun Qiu,
Getian Hu,
Yuqiao Wang,
Yurui Wang,
Ming Luo,
Xin Hu
出处
期刊：
Journal of Materials Chemistry C
[Royal Society of Chemistry]
日期：2021-11-22
卷期号：10 (1): 219-226
被引量：6
标识
DOI：10.1039/d1tc04578d
摘要
A UV-curable high refractive index resist ( n D = 1.7063) for UV-nanoimprint lithography is synthesized and the refractive index can be further improved to 1.7327 after baking. 50 nm resolution patterns are faithfully imprinted into the resist film.
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