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High-rate deposition of ultra-thick silver film by hollow cathode magnetron sputtering

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作者
Jantao Tan,Jun Wang,Qing Cao,Hailin Bi,Jun Wu,Xudi Wang
出处
期刊:Vacuum [Elsevier]
卷期号:212: 112034-112034 被引量:8
标识
DOI:10.1016/j.vacuum.2023.112034

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