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Failure and Degradation Analysis of Commercial 1.2-kV SiC Trench MOSFETs Under Repetitive Short-Circuit Stress

降级（电信） MOSFET 压力（语言学）材料科学沟槽光电子学碳化硅电气工程电子工程工程类电压复合材料晶体管语言学哲学图层（电子）

作者

Hengyu Yu,Michael Jin,Limeng Shi,Monikuntala Bhattacharya,Jiashu Qian,Shiva Houshmand,Atsushi Shimbori,Anant Agarwal

出处

期刊：IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
日期：2025-01-01 卷期号：: 1-7

标识

DOI：10.1109/ted.2025.3537589

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