Study of wafer warpage reduction by dicing street

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作者
Wei Feng,H. Shimamoto,Takeshi Kawagoe,Ichirou Honma,Masato Yamasaki,Fumitake Okutsu,Tetsuro Masuda,Katsuya Kikuchi
出处
期刊:Japanese Journal of Applied Physics [Institute of Physics]
卷期号:61 (SJ): SJ1001-SJ1001 被引量:1
标识
DOI:10.35848/1347-4065/ac61ab
摘要

Abstract Wafer warpage occurs during the fabrication process, which induces many issues such as wafer handling, lithography alignment, device reliability. The efficiency of dicing street on wafer warpage reduction is investigated by varying the width, depth, and pitch of dicing. With the finite element method simulation results, decreasing the dicing pitch to a quarter-pitch shows a 43.7% warpage reduction. We reveal that the method of decreasing the dicing pitch is more efficient on wafer warpage reduction than that of increasing the dicing width or depth. Furthermore, the efficiency of warpage reduction by decreasing the dicing pitch is confirmed by experiments, which shows a good agreement with the simulated results. The method of decreasing the dicing pitch cut each part smaller. These small parts deform locally instead of continually over the whole wafer, resulting in an efficient wafer warpage reduction. This research provides guidelines for chiplet design or optimization of chip size to reduce the wafer warpage.
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