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 Study on effective dry etching of InGaZnO thin films under capacitively coupled plasma-reactive ion etching with a nonfluorine-based etching gas 非氟基刻蚀气体电容耦合等离子体反应离子刻蚀InGaZnO薄膜的有效干法刻蚀研究
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Changyong Oh; Hyeong Wook Kim; Myeong Woo Ju; Junho Song; Bo Sung Kim 出版日期：2023-08-22 |
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