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 A Comparative Study of HBr-Ar and HBr-Cl2 Plasma Chemistries for Dry Etch Applications 相关领域
化学
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分析化学（期刊）
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期刊：Plasma Chemistry and Plasma Processing 作者：Alexander Efremov; Young‐Keun Kim; Hyun–Woo Lee; Kwang‐Ho Kwon 出版日期：2010-12-28 |
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