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 Mechanism of porous low-k film damage induced by plasma etching radicals 等离子体刻蚀自由基对多孔低钾薄膜损伤的机理
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：Yoshihisa Iba; Shiro Ozaki; Makoto Sasaki; Yasushi Kobayashi; Tomoyuki Kirimura; et al 出版日期：2009-08-04 |
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