| 标题 |
Optimization of the CMP process for direct wafer-to-wafer oxide bonding 晶圆对晶圆氧化物直接键合CMP工艺的优化
相关领域
薄脆饼
晶片键合
材料科学
模具准备
过程(计算)
氧化物
光电子学
计算机科学
晶片切割
冶金
操作系统
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊: 作者:Hongmiao Ji; Hemanth Kumar Cheemalamarri; Ting‐Ta Chi; Hui-ting Lim Serene; Wei-Jie Teo Dickson; et al 出版日期:2023-12-05 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)