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 Influence of substrate annealing on inducing Ti3+ and oxygen vacancy in TiO2 thin films deposited via RF magnetron sputtering 衬底退火对射频磁控溅射TiO2薄膜中Ti3+和氧空位的影响
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期刊：Applied Surface Science 作者：Shahrir Abdullah; Mohd Zainizan Sahdan; Nafarizal Nayan; Hashim Saim; Zaidi Embong; et al 出版日期：2018-12-01 |
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