Topology-Directed Siloxane-Based Thiol-Ene Photoresists for Ultraviolet Nanoimprint Lithography

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标题	Topology-Directed Siloxane-Based Thiol-Ene Photoresists for Ultraviolet Nanoimprint Lithography
网址	https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/acsami.6c04362
DOI	10.1021/acsami.6c04362 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials and Interfaces 作者：Wei-Gui Kang; Hao-Tian Xiao; Jiaqi Sun; Hao-Chen Guo; Xiangbin Zou; et al 出版日期：2026-07-03
求助人	读研的牛马在 2026-08-03 17:22:11 发布自广东，悬赏 10 积分
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