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  Effect of Substrate Bias on the Microstructure and Properties of Non-Equimolar (AlCrSiTiZr)N Films with Different Cr/Zr Ratios Deposited Using Reactive Direct Current Magnetron Sputtering 衬底偏压对反应直流磁控溅射不同Cr/Zr比非等摩尔(AlCrSiTiZr)N薄膜组织和性能的影响
相关领域
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期刊：Coatings 作者：Hao-En Peng; Ching-Yin Lee; Hsin‐Yi Chang; Jien‐Wei Yeh 出版日期：2023-11-22 |
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Gavinbry
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2025-06-09 07:24:57 发布，悬赏 10 积分
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