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Material and process optimization for EUV pattern rectification by DSA |
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期刊:Novel Patterning Technologies 2024 作者:Lander Verstraete; Hyo Seon Suh; Julie Van Bel; Byeong-U Bak; Seong Eun Kim; et al 出版日期:2024 |
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(2025-6-4)