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标题
Formation of basal plane dislocations by stress near epilayer/substrate interface of large-diameter SiC wafers with thick epitaxial layers
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DOI
10.1063/5.0210422 doi
其它 期刊:Journal of Applied Physics
作者:F. Fujie; Tsubasa Shiono; K. Murata; N. Ishibashi; Yuichiro Mabuchi; et al
出版日期:2024-06-17
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鲜艳的白竹 在 2026-08-10 15:10:45 发布自福建,悬赏 10 积分
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