| 标题 |
 VHF-PECVD for a-Si:H and a-SiN:H Film Deposition |
| 网址 | |
| DOI |
10.5757/asct.2019.28.5.139
doi
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| 其它 |
期刊：Applied Science and Convergence Technology 作者：Jin Seok Kim 出版日期：2019-09-30 |
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