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Diamond thin film growth by pulsed microwave plasma at high power density in a CH4–H2 gas mixture
网址
http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(03)00585-1
DOI
10.1016/s0257-8972(03)00585-1 doi
其它 期刊：Surface and Coatings Technology
作者：T. Lamara; M. Belmahi; J. Bougdira; F. Bénédic; G. Henrion; et al
出版日期：2003-09-01
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