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  The Dry Etching Properties of TaN Thin Film Using Inductively Coupled Plasma 电感耦合等离子体干法刻蚀TaN薄膜的性能
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期刊：Transactions on Electrical and Electronic Materials 作者：Jong‐Chang Woo; Young Hoon Joo; Chang-Il Kim 出版日期：2012-12-25 |
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