| 标题 |
 Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon nitride and silicon carbonitride using a single source precursor and different plasmas 使用单一源前驱体和不同等离子体的氮化硅和碳氮化硅的等离子体增强原子层沉积
相关领域
硅
等离子体
氮化硅
图层（电子）
材料科学
原子层沉积
沉积（地质）
等离子体处理
氮化物
纳米技术
光电子学
物理
古生物学
量子力学
沉积物
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Samuel M. Johnson; Jianping Zhao; Tsung-Hsuan Yang; Toshihiko Iwao; Charles Schlechte; et al 出版日期：2025-05-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接，等待应助者上传 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
蜉蝣
执着谷兰
不想干活
馆长
linkman
CAOHOU
不安青牛
Dean
leaolf
鸣笛
Meyako
风清扬
CR7
遇上就这样吧
iNk
8R60d8
eric888
不倦
从容芮
尼古丁真
皖公网安备34019202002308
