Effects of Plasma and Wet Processes on Si-Rich Anti-Reflective Coating to Address Selective Trilayer Rework for Sub-20nm Technology Nodes

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标题	Effects of Plasma and Wet Processes on Si-Rich Anti-Reflective Coating to Address Selective Trilayer Rework for Sub-20nm Technology Nodes
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.1149/05806.0241ecst/pd...
DOI	10.1149/05806.0241ecst doi
其它	期刊：作者：O. Pollet; R. Sommer; L. Lachal; S. Barnola; Come De Buttet; et al 出版日期：2013-08-31
求助人	研友_LXOBO8 在 2026-10-16 00:17:06 发布自湖北，悬赏 10 积分
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