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Effect of reactive ion etching on the photoluminescence intensity of nitrogen-vacancy color centers in microwave plasma chemical vapor deposition diamond films
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DOI
10.1116/6.0004405 doi
其它 期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者:Yuan Liu; Feng Xu; Changsheng Lou; Yue Yan; Xianqing Shi; et al
出版日期:2025-05-22
求助人
uwasa 在 2026-01-12 10:01:55 发布自广东,悬赏 10 积分
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