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标题
Oxide-Trapped-Charge-Induced Gate-Diagonal Tunneling Suppression of Gate-Normal Tunnel Field- Effect Transistorsx
栅极正常隧道场效应晶体管的氧化物俘获电荷诱导栅极对角隧穿抑制
相关领域
量子隧道 场效应晶体管 晶体管 隧道效应 材料科学 凝聚态物理 电荷（物理） 光电子学 对角线的 栅氧化层 电气工程 物理 电压 工程类 量子力学 数学 几何学
网址
http://dx.doi.org/10.1109/TNANO.2025.3605557
DOI
10.1109/TNANO.2025.3605557 doi
求助人
果然如此 在 2025-12-26 17:29:16 发布自上海，悬赏 10 积分
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