| 标题 |
 Fabrication of a fractal pattern device for focus characterizations ofX-ray imaging systems by Si deep reactive ion etching and bottom-up Auelectroplating 硅深反应离子刻蚀和自下而上Au电镀制备X射线成像系统聚焦表征分形图案器件
相关领域
材料科学
电镀
光学
蚀刻（微加工）
制作
分形
反应离子刻蚀
深反应离子刻蚀
基质（水族馆）
离子轨道
光电子学
离子
纳米技术
物理
海洋学
医学
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量子力学
病理
替代医学
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期刊：Applied Optics 作者：Zhitian Shi; D. Josell; Konstantins Jefimovs; Lucia Romano; Thomas P. Moffat; et al 出版日期：2022-04-13 |
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