| 标题 |
 Interface control of tetragonal ferroelectric phase in ultrathin Si-doped HfO2 epitaxial films 相关领域
薄膜
凝聚态物理
兴奋剂
硅
电介质
相变
退火（玻璃）
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| 网址 | |
| DOI |
10.1016/j.actamat.2021.116696
doi
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| 其它 |
期刊：Acta Materialia 作者：Tao Li; Juncai Dong; Nian Zhang; Zicheng Wen; Zhenzhong Sun; et al 出版日期：2021 |
| 求助人 |
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2021-07-13 17:20:30 发布，悬赏 10 积分
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