Low-K Replacement Process for AC Performance Improvement on 28nm High-K Metal Gate Platform

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标题	Low-K Replacement Process for AC Performance Improvement on 28nm High-K Metal Gate Platform
网址	http://dx.doi.org/10.1109/cstic68613.2026.11537912
DOI	10.1109/cstic68613.2026.11537912 doi
其它	期刊：2026 Conference of Science and technology of Integrated Circuits (CSTIC) 作者：Huang Zhijian; Wang Changfeng; Meng Xiaoying; Xia Yu 出版日期：2026-03-22
求助人	铁锤牛马版在 2026-08-16 17:11:11 发布自福建，悬赏 10 积分
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