Surface prefunctionalization of SiO2 to modify the etch per cycle during plasma-assisted atomic layer etching

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标题	Surface prefunctionalization of SiO2 to modify the etch per cycle during plasma-assisted atomic layer etching
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/doi/10.1116/1.51109...
DOI	10.1116/1.5110907 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：Ryan J. Gasvoda; Yuri G. P. Verstappen; Scott Wang; Eric A. Hudson; Sumit Agarwal 出版日期：2019-08-29
求助人	皮皮皮卡球在 2026-08-26 15:53:55 发布自安徽，悬赏 10 积分
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