Comparative study of SiO2 thin films deposited by RF magnetron sputtering and reactive HiPIMS: Effects of sputtering power and pulse-on time

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标题	Comparative study of SiO2 thin films deposited by RF magnetron sputtering and reactive HiPIMS: Effects of sputtering power and pulse-on time
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2026.115512
DOI	10.1016/j.vacuum.2026.115512 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Jin-Yu Shih; Fan-Yi Ouyang 出版日期：2026
求助人	Wt 在 2026-06-23 21:10:34 发布自广东，悬赏 10 积分
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