Ru passivated and Ru doped ε-TaN surfaces as a combined barrier and liner material for copper interconnects: a first principles study

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标题	Ru passivated and Ru doped ε-TaN surfaces as a combined barrier and liner material for copper interconnects: a first principles study
网址	https://doi.org/10.1039/C8TC06118A
DOI	10.1039/C8TC06118A doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Suresh Kondati Natarajan; Cara-Lena Nies; Michael Nolan 出版日期：2019
求助人	马家辉在 2026-03-27 21:06:40 发布自北京，悬赏 10 积分
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