| 标题 |
Mask Influence on the Near-Surface Region of Microstructures Made by Deep Cryogenic Etching of Silicon in SF6/O2 Plasma 相关领域
材料科学
蚀刻(微加工)
硅
微观结构
等离子体
等离子体刻蚀
低温
光电子学
复合材料
强子
各向同性腐蚀
深反应离子刻蚀
冶金
反应离子刻蚀
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Bulletin of The Russian Academy of Sciences: Physics 作者:K. V. Rudenko; A. E. Melnikov; A. V. Miakonkikh 出版日期:2026-04-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
StevenZhao
Lv7 求助人 发起了本次求助
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)