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 Comparative study of Cl2 + O2 and HBr + O2 plasma chemistries in respect to silicon reactive-ion etching process Cl2+O2和HBr+O2等离子体化学在硅反应离子刻蚀中的比较研究
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期刊：Vacuum 作者：Nomin Lim; Alexander Efremov; Kwang‐Ho Kwon 出版日期：2021-01-11 |
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平常的凛
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