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 Virtual experiments of Czochralski growth of silicon using machine learning: Influence of processing parameters on interstitial oxygen concentration 利用机器学习进行硅提拉生长的虚拟实验：工艺参数对间隙氧浓度的影响
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期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Kentaro Kutsukake; Yuta Nagai; Banba Hironori 出版日期：2022-04-01 |
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