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标题
Preparation of silica/ceria nano composite abrasive and its CMP behavior on hard disk substrate
二氧化硅/二氧化硅纳米复合研磨剂的制备及其在硬盘基片上的化学机械抛光行为
相关领域
基质（水族馆） 磨料 材料科学 纳米- 复合数 化学机械平面化 纳米技术 复合材料 抛光 海洋学 地质学
网址
https://doi.org/10.1016/j.mee.2009.10.006
DOI
10.1016/j.mee.2009.10.006 doi
其它 期刊：Microelectronic Engineering
作者：Hong Lei; Fengling Chu; Baoqi Xiao; Xifu Tu; Hua Xu; et al
出版日期：2009-10-13
求助人
麦克阿宇 在 2025-07-18 19:32:21 发布自山东，悬赏 10 积分
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