Improving FinFET Junctions and Contacts via Laser Annealing

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标题	Improving FinFET Junctions and Contacts via Laser Annealing 通过激光退火改善FinFET结和接触相关领域平面的限制拓扑（电路）物理材料科学计算机科学电气工程工程类机械工程计算机图形学（图像）
网址	https://doi.org/10.23919/iwjt59028.2023.10175094
DOI	10.23919/iwjt59028.2023.10175094 doi
其它	期刊：作者：Oleg Gluschenkov; Yasir Sulehria; Shogo Mochizuki; Kevin Brew 出版日期：2023-06-08
求助人	tommmmmm15 在 2025-07-21 00:29:17 发布自湖北，悬赏 10 积分
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